Ion Sources
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TFD2KUBHBPF
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Details
This book is the most comprehensive book on ion sources as part of ion implantation technology, a newly established basic technology for microelectronic device processing. It appeals to physicists, engineers and advanced students active in ion implantation and ion beam physics.
Inhalt
Introduction.- Gas Discharge Fundamentals.- Extraction System for Ion Sources.- Positive Ion Sources.- Giant Ion Sources.- Multiply Charged Ion Sources.- Mass and Energy Spectra of Ion Sources.- Negative Ion Sources.- Self-Neutralization of Beam Space Charge.- Beam Diagnostics for Ion Sources.
Weitere Informationen
- Allgemeine Informationen
- Sprache Englisch
- Gewicht 744g
- Autor Huashun Zhang
- Titel Ion Sources
- Veröffentlichung 03.12.2010
- ISBN 3642085024
- Format Kartonierter Einband
- EAN 9783642085024
- Jahr 2010
- Größe H235mm x B155mm x T27mm
- Herausgeber Springer Berlin Heidelberg
- Anzahl Seiten 496
- Editor Jianrong Zhang
- Auflage Softcover reprint of hardcover 1st edition 1999
- Lesemotiv Verstehen
- GTIN 09783642085024
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