Patentgesetz. PatG

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Details

Zum Werk
Dieser Klassiker ist der führende und für die Meinungsbildung unverzichtbare patenrechtliche Kommentar - nicht nur dank seiner traditionellen Nähe zur Rechtsprechung des BGH. Bezüge insbesondere zum Europäischen Patentübereinkommen (EPÜ), zum internationalen und zum ausländischen Recht werden, wo nötig, stets hergestellt.

Vorteile auf einen Blick

  • Erläuterung durch erfahrene Praktikerinnen und Praktiker
  • Gründliche Darstellung nach deutschem Kommentarstandard
  • Mitbehandlung des Gebrauchsmustergesetzes
    Zur Neuauflage
    Die Neuauflage berücksichtigt die aktuellen Entwicklungen in Rechtsprechung und Gesetzgebung und wird sowohl in wissenschaftlicher Hinsicht als auch in ihrem Praxisbezug höchsten Ansprüchen gerecht.
    Behandelt werden etwa Fragen zur Lizenzierung standardessenzieller Patente (SEP) sowie zum Europäischen Patent mit einheitlicher Wirkung (EPeW) und dem Einheitlichen Patentgericht (EPG).
    Ebenfalls enthalten sind die Änderungen aufgrund des Zweiten Gesetzes zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts, wie insbesondere die Neuregelung des patentrechtlichen Unterlassungsanspruchs.

    Zielgruppe
    Für Rechts- und Patentanwaltschaft, Unternehmen, Gerichte, Studium, Referendariat und sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in Behörden.

    Klappentext

    Zum Werk
    Dieser Klassiker ist der führende und für die Meinungsbildung unverzichtbare patenrechtliche Kommentar - nicht nur dank seiner traditionellen Nähe zur Rechtsprechung des BGH. Bezüge insbesondere zum Europäischen Patentübereinkommen (EPÜ), zum internationalen und zum ausländischen Recht werden, wo nötig, stets hergestellt.

    Vorteile auf einen Blick

  • Erläuterung durch erfahrene Praktikerinnen und Praktiker
  • Gründliche Darstellung nach deutschem Kommentarstandard
  • Mitbehandlung des Gebrauchsmustergesetzes
    Zur Neuauflage
    Die Neuauflage berücksichtigt die aktuellen Entwicklungen in Rechtsprechung und Gesetzgebung und wird sowohl in wissenschaftlicher Hinsicht als auch in ihrem Praxisbezug höchsten Ansprüchen gerecht.
    Behandelt werden etwa Fragen zur Lizenzierung standardessenzieller Patente (SEP) sowie zum Europäischen Patent mit einheitlicher Wirkung (EPeW) und dem Einheitlichen Patentgericht (EPG).
    Ebenfalls enthalten sind die Änderungen aufgrund des Zweiten Gesetzes zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts, wie insbesondere die Neuregelung des patentrechtlichen Unterlassungsanspruchs.

    Zielgruppe
    Für Rechts- und Patentanwaltschaft, Unternehmen, Gerichte, Studium, Referendariat und sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in Behörden.

    Zusammenfassung
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    Dieser Klassiker ist der führende und für die Meinungsbildung unverzichtbare patenrechtliche Kommentar - nicht nur dank seiner traditionellen Nähe zur Rechtsprechung des BGH. Bezüge insbesondere zum Europäischen Patentübereinkommen (EPÜ), zum internationalen und zum ausländischen Recht werden, wo nötig, stets hergestellt.

    Vorteile auf einen Blick

  • Erläuterung durch erfahrene Praktikerinnen und Praktiker
  • Gründliche Darstellung nach deutschem Kommentarstandard
  • Mitbehandlung des Gebrauchsmustergesetzes
    Zur Neuauflage
    Die Neuauflage berücksichtigt die aktuellen Entwicklungen in Rechtsprechung und Gesetzgebung und wird sowohl in wissenschaftlicher Hinsicht als auch in ihrem Praxisbezug höchsten Ansprüchen gerecht.
    Behandelt werden etwa Fragen zur Lizenzierung standardessenzieller Patente (SEP) sowie zum Europäischen Patent mit einheitlicher Wirkung (EPeW) und dem Einheitlichen Patentgericht (EPG).
    Ebenfalls enthalten sind die Änderungen aufgrund des Zweiten Gesetzes zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts, wie insbesondere die Neuregelung des patentrechtlichen Unterlassungsanspruchs.

    Zielgruppe
    Für Rechts- und Patentanwaltschaft, Unternehmen, Gerichte, Studium, Referendariat und sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in Behörden.

Weitere Informationen

  • Allgemeine Informationen
    • GTIN 09783406727894
    • Editor Klaus Bacher
    • Schöpfer Klaus Bacher, Claus Dietrich Asendorf, Friedrich-Wilhelm Engel, Stephan Fricke, Klaus Grabinski, Helga Kober-Dehm, Klaus-Jürgen Melullis, Julia Nobbe, Annette Rupp-Swienty, Hubertus Schacht, Uwe Scharen, Ina Schnurr, Walter Schramm, Hans-Detlef Schwarz, P
    • Sprache Deutsch
    • andere Klaus Bacher, Friedrich-Wilhelm Engel, Stephan Fricke, Klaus Grabinski, Helga Kober-Dehm, Klaus-Jürgen Melullis, Julia Nobbe, Annette Rupp-Swienty, Hubertus Schacht, Uwe Scharen, Ina Schnurr, Walter Schramm, Hans-Detlef Schwarz, Peter Tochtermann
    • Auflage 12., neubearbeitete Auflage
    • Größe H240mm x B160mm x T70mm
    • Jahr 2023
    • EAN 9783406727894
    • Format Fester Einband
    • ISBN 978-3-406-72789-4
    • Veröffentlichung 29.06.2023
    • Titel Patentgesetz. PatG
    • Autor Georg Benkard
    • Untertitel Gebrauchsmustergesetz, Patentkostengesetz
    • Gewicht 2124g
    • Herausgeber C.H. Beck
    • Anzahl Seiten 2501
    • Lesemotiv Verstehen
    • Genre Arbeits- & Sozialrecht

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