Contrôle du plasma électronique par nanostructuration métallique

Cet ouvrage décrit les recherches menées sur le contrôle du plasma électronique par nanostructuration métallique, qui permet à son tour de contrôler efficacement les plasmons de surface (SP). Ces SP sont des ondes qui se propagent à l'interface entre un métal noble et un diélectrique, dont la fréquence dépend de la fréquence du plasma électronique massif du métal. Le couplage efficace des SP avec les photons dans le diélectrique permet une localisation du champ à une échelle inférieure à la longueur d'onde, et ces sources de lumière à l'échelle nanométrique sont nécessaires dans les systèmes d'enregistrement magnétique assisté par chaleur (HAMR). La structuration des métaux (réseau de diffraction rectangulaire 1D) à l'échelle nanométrique permet de coupler les photons à ces SP. En outre, il est particulièrement intéressant d'utiliser un substrat à indice de réfraction élevé, par exemple le phosphure de gallium (GaP), qui est un matériau photoluminescent utilisé pour compenser les pertes ohmiques sur un film d'or de 50 nm déposé sur du GaP. Le GaP est également utilisé pour émuler un laser à cavité verticale à émission par la surface (VCSEL) afin de fournir une alternative moins coûteuse à la source lumineuse utilisée dans la technologie HAMR.

Autorentext

Dr. Tahir Iqbal Awan ist ein junger, aktiver Forscher auf dem Gebiet der Nanotechnologie und Nanoplasmonik. Derzeit arbeitet er als Assistenzprofessor am Fachbereich Physik der Universität Gujrat in Gujrat, Punjab, Pakistan. Er erwarb seinen Master und Doktortitel am Center for Nanostructured Media (CNM) der Queen's University Belfast, Großbritannien.