Kantenisolation von Solarwafern
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Details
Kantenisolation von monokristallinen Solarwafern auf Basis von thermisch angeregten Ätzpasten mittels CO2-Laser. Über Anregung einer KOH-Paste wurde selektiv Silizium am Rand eines Wafer zur Erzeugung einer Isolationskante geätzt. In Abhängigkeit des Isolationsgrades wurden die Spurbreiten der aufgetragenenen Paste sowie die Laserparameter Intensität und Vorschubgeschindigkeit untersucht. Dabei wurde gezeigt, dass die Wafer unter bestimmten Parameter isoliert werden können.
Autorentext
David Haldan,Jahrgang 1985, Ausbildung zum Physiklaboranten von 2005-2009 am institut für Oberflächenmodifizierung. Studium in der Fachrichtung "Physikalische Technik" an der Hochschule Mittweida von 2009-2014. Bachelor über "Untersuchung laserbasierter Prozesse zur Kantenisolation von Solarwafern"
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GarantieWeitere Informationen
- Allgemeine Informationen
- GTIN 09783639626063
- Genre Chemische Technik
- Sprache Deutsch
- Anzahl Seiten 64
- Herausgeber AV Akademikerverlag
- Größe H220mm x B150mm x T4mm
- Jahr 2014
- EAN 9783639626063
- Format Kartonierter Einband
- ISBN 978-3-639-62606-3
- Veröffentlichung 23.04.2014
- Titel Kantenisolation von Solarwafern
- Autor David Haldan
- Untertitel Untersuchung laserbasierter Prozesse zur Kantenisolation von Solarwafern
- Gewicht 113g
