Nanoimprint Lithography

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T2NLCMMHM28
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Details

High Quality Content by WIKIPEDIA articles! High Quality Content by WIKIPEDIA articles! Nanoimprint lithography is a method of fabricating nanometer scale patterns. It is a simple nanolithography process with low cost, high throughput and high resolution. It creates patterns by mechanical deformation of imprint resist and subsequent processes. The imprint resist is typically a monomer or polymer formulation that is cured by heat or UV light during the imprinting. Adhesion between the resist and the template is controlled to allow proper release.

Weitere Informationen

  • Allgemeine Informationen
    • GTIN 09786131437342
    • Genre Technik
    • Editor Lambert M. Surhone, Mariam T. Tennoe, Susan F. Henssonow
    • Anzahl Seiten 72
    • Herausgeber Betascript Publishing
    • EAN 9786131437342
    • Titel Nanoimprint Lithography

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