Thin Film Diamond

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Details

This work, written by leading international authorities, deals with nucleation growth and processing, characterization and electrical, thermal, optical and mechanical properties of thin film diamond. The final chapters are devoted to the broad range of applications of this material.

Inhalt

Chemical vapour deposition of diamond - J C Angus; Thin film diamond growth mechanisms - J E Butler; Microwave plasma chemical vapour deposition and related techniques for low pressure diamond synthesis - P K Bachmann; Local epitaxial growth of diamond on nickel from the vapour phase - Y Sato; The optical and electronic properties of semiconducting diamond - A T Collins; The thermal conductivity of CVD diamond films - T R Anthony; Electron irradiation and heat treatment of polycrystalline CVD diamond - C D Clark; Strength, fracture and erosion properties of CVD diamond - J E Field. Deposition of diamond-like carbon - J Robertson; Applications of diamond-like carbon thin films - A H Lettington; Diamond as a wear-resistant coating - B Lux; Thermal and optical applications of thin film diamond - M Seal.

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Weitere Informationen

  • Allgemeine Informationen
    • GTIN 09780412496301
    • Anzahl Seiten 157
    • Genre Wärme- und Energietechnik
    • Editor A. H. Lettington, J. W. Steeds
    • Herausgeber Springer Netherlands
    • Gewicht 370g
    • Größe H235mm x B13mm x T155mm
    • Jahr 1993
    • EAN 9780412496301
    • Format Fester Einband
    • ISBN 978-0-412-49630-1
    • Titel Thin Film Diamond
    • Autor Alan H Lettington , Royal Society (Great Britain)
    • Sprache Englisch

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